镀金蚀刻加工较新价格

金属蚀刻网片的熔炼过程：

1）一：这个阶段主要是起弧。电炉通电后，电极发射热电子，从阴极发出大量电子，高速电子可使中性的空气分子离解成离子，从而空气具有导电能力，产生电弧，释放出大量的光和热。

2）二：这个阶段主要是电极穿井和较下炉料的熔化。通电起弧后，电极下的炉料受热熔化。随着熔化的进行，经过15-25分钟的时间，电极降到低位置。在此阶段，电弧始终被炉料包围，电弧所放出的热量绝大部分用于加热和熔化炉料，对炉盖的热辐射很少，应该向炉内输送大功率。

3）三：这一阶段主要是电极四周炉料的熔化和电极的回升。随着熔化的进行，液面不断上升，电极也就相应地上升。在回升过程中，周围的炉料逐渐熔化，当炉内只有炉坡和炉底还剩部分未熔炉料，即全部炉料熔化80%左右，这一阶段结束。在这个阶段，电弧在大部分时间中仍被冷料包围，应仍向炉内输送大功率。

4）四：这个阶段主要是低温炉区炉料的熔化。电弧是点热源，炉膛内的温度分布不均匀，炉门附近，出钢口两侧等处的炉料熔化较慢。应及时将这些地方的冷料推入熔池。在此阶段液面仍缓慢上升，钢水温度已经升高，电弧开始暴露在液面上，辐射加强，应该适当降低输入功率和电压。

*二和*三阶段是熔化过程的主要阶段，占全部时间的70-80%，是决定熔化期时间长短的主要因素。

兴之扬蚀刻不锈钢网片小编来向大家说说电浆干法蚀刻中的基本物理及化学现象：

在干法蚀刻中，随着制程参数及电浆状态的改变，可以区分为两种较端的性质的蚀刻方式，即纯物理性蚀刻与纯化学反应性蚀刻。纯物理性蚀刻可视为一种物理溅镀(Sputter)方式，它是利用辉光放电，将气体如Ar，解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出。此过程乃完全利用物理上能量的转移，故谓之物理性蚀刻。其特色为离子撞击拥有很好的方向性，可获得接近垂直的蚀刻轮廓。但缺点是由于离子是以撞击的方式达到蚀刻的目的，因此光阻与待蚀刻材料两者将同时遭受蚀刻，造成对屏蔽物质的蚀刻选择比变差，同时蚀刻终点必须精准掌控，因为以离子撞击方式蚀刻对于底层物质的选择比很低。且被击出的物质往往非挥发性物质，而这些物质容易再度沉积至被蚀刻物薄膜的表面或侧壁。加上蚀刻效率偏低，因此，以纯物理性蚀刻方式在集成电路制造过程中很少被用到。

纯化学反应性蚀刻，则是利用电浆产生化学活性较强的原(分)子团，此原(分)子团扩散至待蚀刻物质的表面，并与待蚀刻物质反应产生挥发性之反应生成物，并被真空设备抽离反应腔。因此种反应完全利用化学反应来达成，故谓之化学反应性蚀刻。此种蚀刻方式相近于湿式蚀刻，只是反应物及产物的状态由液态改变为气态，并利用电浆来促进蚀刻的速率。因此纯化学反应性蚀刻拥有类似于湿式蚀刻的优点及缺点，即高选择比及等向性蚀刻。在半导体制程中纯化学反应性蚀刻应用的情况通常为不需做图形转换的步骤，如光阻的去除等。

NaOH浓度对蚀刻速度影响

NaOH浓度对蚀刻速度影响：在蚀刻温度不变的情况下，增加NaOH浓度，蚀刻速度加快。但在实际生产中也不能无限制地增加NaOH浓度，原因是：a、NaOH浓度对蚀刻速度影响太高的NaOH浓度稠度太大，影响反应的正常进行，同时也增加了对抗蚀层的要求；b、NaOH浓度对蚀刻速度影响NaOH浓度太高将使成本投入增大，零件带出量增大，不利于进行低成本的加工；c、过快的蚀刻速度回使铝合金表面粗糙度增大。NaOH浓度一定以80g/L-120g/L为宜，只有在特别需要情况下才会使用更高浓度的NaOH蚀刻液。